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  • 研磨阻尼布 CMPPAD 平面抛光垫供应
    研磨阻尼布 CMPPAD 平面抛光垫供应

    产品特点:v 材料的亲水性:采用特殊冒泡聚氨基甲酸酯,对于抛光液的濡湿性(亲水性)出众.v 基层纤维厚度的均一性:抛光压力及抛光液的流动量均一v 起泡的泡囊长度均一性:抛光压力及抛光液的流动量均一以及抛光效率的均一性高v 起泡的泡囊形状均一性:抛光液的含量均一,因此抛光效率均一性高v 起泡的泡囊的开口口径均一性:抛光效

    最后更新:2026-01-12

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