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氧化铈抛光垫 玻璃光学镜片高透光抛光垫供应
氧化铈抛光皮 光学级镜面抛光 2.5D/3D曲面专用 耐磨省成本聚氨酯+高活性氧化铈双效加持，2.5D/3D曲面抛光不卡料，无痕镜面一次成型•三重抛光效率翻倍：氧化铈磨料通过“氧化-络合-剥离”化学循环，先软化玻璃表面硅氧网络，再由纳米颗粒精准剥离，相比氧化铝抛光皮，K9玻璃材料去除率达1.55mg/min，提升40%；最终表面粗糙
最后更新：2026-01-12
氧化铈抛光皮现货供应 光学加工耗材
氧化铈抛光皮 精密抛光专用 高耐磨光学级抛光耗材一、产品核心优势：稳定耐用，性价比拉满三重抛光更高效：氧化铈磨料通过Ce³⁺/Ce⁴⁺可变价特性，快速完成“氧化-络合-剥离”循环，相比氧化铝抛光皮，K9玻璃材料去除率达1.55mg/min，提升40%，表面粗糙度低至Ra≤0.018μm，雾度（Haze）值＜0.1%，完美呈现光学级镜面效果
最后更新：2026-01-12
聚氨酯抛光垫、氧化铈抛光皮供应商直供
氧化铈、氧化铝抛光皮氧化铈、氧化铝抛光皮，日本技术，专业生产，厂家直销国内国际优势价格：替代LP66、LP77、LP26、LP57、IC1010、KSP等进口抛光片。主成份含量密度(g/cm3)硬度(JIS-A)CeO223-25%0.4577-80UnfilledUnfilled0.6295Fe2O37.7%0.6687广泛应用于●精密光学●平板玻璃/ LCD / FPD●存储磁盘驱动器●半导体陶瓷基
最后更新：2026-01-12
CMP 抛光垫 芯片制造晶圆抛光垫定制供应
SUBA合成纤维聚合物抛光垫抛光垫规格项目具体内容参数抛光垫常用尺寸圆形片380mm圆形片460mm圆形片610mm圆形片910mm圆形：230(mm)、380(mm)、640(mm)、610(mm)、820(mm)、920(mm)、960(mm)、1180(mm)、1250(mm)、1280(mm)。宽幅：1.35M抛光垫常用厚度0.6-1.5mm抛光垫的深加工可针对适用之项目制作不同尺寸形状，制作剖沟、
最后更新：2026-01-12
定制 CMP 抛光垫 芯片制造高精度晶圆抛光垫供应
SUBA合成纤维聚合物抛光垫可完美替代：POLYPAS 、Supreme (Politex) 、UNI-NAP精抛皮、PRIMAR 、SUBA800600白色抛光垫片、UNALUX终道抛光垫、IKONIC研磨垫、 LP、KSP等进口CMP抛光片。广泛应用于●精密光学●平板玻璃/ LCD / FPD●存储磁盘驱动器●半导体陶瓷基板●光学玻璃●LED蓝宝石基板●晶体等抛光领域， 可以抛光多种
最后更新：2026-01-12
定制 CMPPAD 抛光垫 大尺寸晶圆抛光垫批量供应
SUBA合成纤维聚合物抛光垫SUBA合成纤维聚合物抛光垫，日本技术，专业生产，厂家直销国内国际优势价格：替代：POLYPAS 、Supreme (Politex) 、UNI-NAP精抛皮、PRIMAR 、SUBA800600白色抛光垫片、UNALUX终道抛光垫、IKONIC研磨垫、 LP、KSP等进口CMP抛光片。广泛应用于●精密光学●平板玻璃/ LCD / FPD●存储磁盘驱动器●半导
最后更新：2026-01-12
定制 CMPPAD 抛光垫 碳化硅晶圆抛光专用垫批量供应
聚氨酯抛光垫聚氨酯抛光垫，日本技术，专业生产，厂家直销国内国际优势价格：替代LP66、LP77、LP26、LP57、IC1010、KSP等进口抛光片。广泛应用于●精密光学●平板玻璃/ LCD / FPD●存储磁盘驱动器●半导体陶瓷基板●光学玻璃●LED蓝宝石基板●晶体等抛光领域， 可以抛光多种材质的工件如硅片、砷化镓、石英晶体、蓝宝石、金
最后更新：2026-01-12
CMPPAD 平面研磨垫 高耐磨抛光阻尼布供应
聚氨酯抛光垫聚氨酯抛光垫，日本技术，专业生产，厂家直销国内国际优势价格：替代LP66、LP77、LP26、LP57、IC1010、KSP等进口抛光片。广泛应用于●精密光学●平板玻璃/ LCD / FPD●存储磁盘驱动器●半导体陶瓷基板●光学玻璃●LED蓝宝石基板●晶体等抛光领域， 可以抛光多种材质的工件如硅片、砷化镓、石英晶体、蓝宝石、金
最后更新：2026-01-12
