纳米电镀浆料
纳米电镀浆料VK-LD03纳米颗粒复合电镀层组织更加严密，该复合镀层具有更优异的性能，硬度更高，耐磨性更好，涂层结合强度更高，工作温度提高到400度。一．性能特征和作用晶和牌VK-LD03型高耐蚀镀镍纳米复合电镀浆料通过纳米材料的作用能够使镍镀层致密、结晶细化，孔…
标签: 2025-11-24
纳米电镀浆料VK-LD03纳米颗粒复合电镀层组织更加严密，该复合镀层具有更优异的性能，硬度更高，耐磨性更好，涂层结合强度更高，工作温度提高到400度。一．性能特征和作用晶和牌VK-LD03型高耐蚀镀镍纳米复合电镀浆料通过纳米材料的作用能够使镍镀层致密、结晶细化，孔…
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电镀钝化用纳米二氧化硅水分散液，电镀氧化硅浆料我公司通过艰难的技术攻关，使得产品中的高度晶化α纳米氧化铝、纳米二氧化硅颗粒能稳定的分散在水性（有机溶剂）浆料里。特性稳定优良，使得纳米三氧化二铝、纳米二氧化硅的分散浆料在显强酸性的电镀浆料中稳定不团…
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化妆品护肤防晒 抗紫外金红石氧化钛UV防护剂 抗UVA、UVB化妆品级纳米二氧化钛晶瑞新材料甘先生 186 2016 2680微化妆品级纳米二氧化钛，与普通级化妆品二氧化钛相比，如下优势：1,30-50纳米的化妆品级二氧化钛透明性好，所做的防晒霜涂在肌肤上显得自然，细腻；2，化…
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2025年11月16日，为期三天的上海儿童健康展在上海世博展览馆圆满落幕。作为聚焦儿童健康领域的年度盛会，展会以专业视角整合产业资源，用创新形式传递健康理念，为行业发展与家庭育儿搭建桥梁。今年共吸引88家机构及企业以展示、科普、互动等多元形式参与，迎来8,929…
标签: 2025-11-242025年11月14日至16日，备受行业关注与家庭期待的第二届上海儿童健康展于上海世博展览馆隆重开幕。展会专注于3-16岁儿童，以“大健康·新生态”为主题，致力于构建一个从“单一”到“多元”，从“传统”到“智能”转型的全新儿童健康产业生态体系。2025上海儿童健康…
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ZESTRON® SD 301用于清除焊锡膏、SMT 胶水和厚膜浆料的网板和丝网清洗液ZESTRON® SD 301 是一款改良配方的清洗液，气味更淡，其快速干燥能力缩短了清洗工艺的时间。ZESTRON® SD 301设计用在喷淋清洗设备中，来清除网板和丝网上的焊锡膏、SMT 胶水和厚膜浆料。另外…
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ZESTRON® SD 100用于清洗网板和丝网的精密清洗液ZESTRON® SD 100是溶剂型清洗液，它设计用于喷淋清洗设备中，来清除SMT网板上的焊锡膏。ZESTRON® SD 100 还可以用于误印线路板的清洗。相较于其他清洗液的优势：ZESTRON®SD 100的高清洗负载能力和非常好的可过滤性…
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ZESTRON® FA+用于半水工艺的助焊剂清洗液ZESTRON® FA+ 是用于清除电子组装件，陶瓷基板，功率器件（功率模块，引线框架型分立器件，功率LED器件）和封装器件（倒装芯片，CMOS器件）上各种助焊剂残留物的溶剂型清洗液。ZESTRON® FA+具有极佳的清洗能力和极高的负载…
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ZESTRON® DW用于镜片表面除蜡、PCB除蜡、功率电子除蜡的溶剂型清洗剂ZESTRON® DW是一款溶剂型清洗剂，专门设计用于去除镜片表面、电子元器件、混合陶瓷、功率模组和引线框架上的蜡残留。相较于其他清洗液的优势：ZESTRON®DW拥有良好的疏水性溶解力，类似于芳香烃…
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ZESTRON® CO 150用于无水共溶工艺的精密清洗液ZESTRON® CO 150是一款为浸入式超声波清洗工艺而研发的溶剂型清洗液。ZESTRON® CO150可在不被稀释的情况下用作预清洗，或与HFE溶剂混合作为共溶溶剂使用。ZESTRON® CO 150特别适用于去除电子组装件，功率模块和引线…
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HYDRON® WS 400去除水溶性助焊剂的碱性水基清洗剂HYDRON® WS 400 是一款水基型清洗剂，特别设计用于去除电子组装件上水溶性(WS)助焊剂残留物。该清洗剂与敏感金属兼容。HYDRON® WS 400 在低浓度(3%-5%)应用时，可渗透去离子水无法达到的低底部间隙元器件的细小空…
标签: 2025-11-24
HYDRON® SE 230A用于半导体器件的碱性清洗剂专为浸没式清洗工艺设计的单相水基型清洗剂，能够有效去除多种半导体电子器件芯片焊接后的助焊剂残留物，包括引线框架、分立器件、功率模块、功率LED、倒装芯片和CMOS，且能够保证有效去除铜表面的氧化层。相较于其他清洗…
标签: 2025-11-24
HYDRON® SE 220专为半导体电子设计的 pH中性助焊剂清洗液HYDRON® SE 220是一款水基型单相清洗液,专门设计用于浸没式清洗工艺。HYDRON® SE 220能够有效去除芯片黏着后引线框架、分立器件、功率模块、功率LED等多种半导体电子器件上的助焊剂残留，对于倒装芯片、CMO…
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HYDRON® SC 300单相水基型钢网清洗剂HYDRON® SC 300 是一款单相水基型清洗产品，用于在室温条件下对SMT钢网进行清洗。该清洗剂能够高效地在单一工艺中去除锡膏及SMT贴片胶残留。HYDRON®SC 300同时适用于清洗和漂洗应用，在烘干后不会留下残渍。相较于其他清洗液的…
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ATRON® SP 400用于清除夹具和冷凝管上助焊剂的水基清洗剂ATRON® SP 400是一款水基碱性表面活性剂型清洗液，特别设计用于清洗焊接夹具和冷凝管上被烘焙的助焊剂。 ATRON® SP 400 专门设计用于喷淋式清洗工艺。相较于其他清洗液的优势：ATRON®SP 400不易起泡，即使…
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ATRON® SP 200用于清除烘焙过的助焊剂的水基清洗剂ATRON® SP 200是一款水基碱性表面活性剂型清洗液，特别设计用于清洗焊接夹具和冷凝管上烘焙过的助焊剂。ATRON® SP 200对于清除网板上的焊锡膏也非常有效。可应用于喷淋清洗设备、超声波清洗设备或者空气辅助清洗…
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ATRON® DC用于涂层框架，装置及工具去涂覆层的水基清洗剂ATRON® DC 是世界首款最高操作安全级别、专为最大限度去涂覆层研发的水基型清洗剂。从涂覆架、托盘和夹具上可靠地去除不同种类的涂层材料，包括丙烯酸酯，聚氨酯，环氧树脂，UV固化型等类型。ATRON® DC适用…
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ATRON® AC 207用于喷淋式清洗工艺的水基助焊剂清洗液ATRON® AC 207是一款基于FAST® 快效表面活性剂技术的水基清洗液，特别设计用于应用浓度较低的情况下。与传统的表面活性剂型清洗液相比，ATRON® AC 207具有更出众的清洗效果和更长的使用寿命，同时对敏感金属具…
标签: 2025-11-24
ATRON® AC 205水基碱性助焊剂清洗液ATRON® AC 205是一款基于FAST® 快效表面活性剂技术的水基助焊剂清洗液，特别设计应用在接触时间较短的高压在线喷淋设备中。与传统的表面活性剂型清洗液相比, ATRON® AC 205所需的接触时间更短，而且清洗的负载量更高。相较于其…
标签: 2025-11-24
VIGON® US用于去除助焊剂残留物的水基清洗液VIGON® US 是特别设计应用于超声波式，底部喷流式和离心式清洗设备中的水基清洗液。基于ZESTRON公司专利的 MPC微相清洗技术，VIGON® US可以清除电子组装件，倒装芯片和CMOS器件上的各种助焊剂残留物。相较于其他清洗液…
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售后：任经理
