德国ZESTRON® RESIN TEST树脂残留检测试剂
ZESTRON® RESIN TEST指示电子组件表面树脂基残留的分布情况ZESTRON®Resin Test借助于显色反应，可以暂时地可视地标识出在电子组装件上的树脂型残留物的分布。那些会造成敷形涂覆粘附力减弱和分层现象具有危害性的松香型残留物，可以在生产中被检测定位并在清洗工艺…
标签: 2025-11-25
ZESTRON® RESIN TEST指示电子组件表面树脂基残留的分布情况ZESTRON®Resin Test借助于显色反应，可以暂时地可视地标识出在电子组装件上的树脂型残留物的分布。那些会造成敷形涂覆粘附力减弱和分层现象具有危害性的松香型残留物，可以在生产中被检测定位并在清洗工艺…
标签: 2025-11-25
ZESTRON® FLUX TEST指示PCB板表面羧基助焊剂活性物残留的分布情况ZESTRON® Flux Test借助于显色反应，可以标识出羧酸基型助焊剂中的活化剂。此测试方法对于离子污染度检测是非常重要的补充，因为无法看到的残留物可以轻易地被检测到。 另外，ZESTRON®Flux Test有…
标签: 2025-11-25
ZESTRON® VD用于无水工艺的助焊剂清洗液ZESTRON® VD是用于清除电子组装件，陶瓷基板，引线框架型分立器件表面上各种助焊剂残留物的溶剂型清洗液。 ZESTRON® VD设计用于闭环单腔的汽相清洗设备中。相较于其他清洗液的优势：ZESTRON®VD兼有极性和非极性成分，因此…
标签: 2025-11-25
ZESTRON® SW用于印刷机内网板底部擦拭的精密清洗剂ZESTRON® SW 是闪点较高的溶剂型清洗液，它特别设计用于不带有真空干燥的SMT印刷机内，对网板进行底部擦拭。使用ZESTRON® SW 可以得到稳定可重现的清洗结果，另一方面，ZESTRON® SW 干燥后不会留下残留物，因此…
标签: 2025-11-25
催化剂用纳米氢氧化铝 基本信息：CAS 1344-28-1性质：高纯纳米氢氧化铝可以作为阻燃剂和催化剂，可广泛应用于橡胶、塑料中作为阻燃剂和填充剂；在阻燃涂料以及家庭、汽车内的装饰材料上作为主要的阻燃添加剂；而与基体材料形成的有机/无机纳米复合材料，又使得它能广…
标签: 2025-11-24
压敏胶用纳米二氧化钛超耐候防晒纳米二氧化钛CAS：13463-67-7涂料油墨用纳米钛白粉用于工业涂料中具有高光泽、超耐候性、优良的分散性和漆膜固化性等优点.1,高光泽度由于在生产过程中仔细控制tio2的粒径,使其具有突出的光泽性能,具有较窄的粒径分布,因而那些有损光泽…
标签: 2025-11-24
纳米电镀浆料VK-LD03纳米颗粒复合电镀层组织更加严密，该复合镀层具有更优异的性能，硬度更高，耐磨性更好，涂层结合强度更高，工作温度提高到400度。一．性能特征和作用晶和牌VK-LD03型高耐蚀镀镍纳米复合电镀浆料通过纳米材料的作用能够使镍镀层致密、结晶细化，孔…
标签: 2025-11-24
电镀钝化用纳米二氧化硅水分散液，电镀氧化硅浆料我公司通过艰难的技术攻关，使得产品中的高度晶化α纳米氧化铝、纳米二氧化硅颗粒能稳定的分散在水性（有机溶剂）浆料里。特性稳定优良，使得纳米三氧化二铝、纳米二氧化硅的分散浆料在显强酸性的电镀浆料中稳定不团…
标签: 2025-11-24
化妆品护肤防晒 抗紫外金红石氧化钛UV防护剂 抗UVA、UVB化妆品级纳米二氧化钛晶瑞新材料甘先生 186 2016 2680微化妆品级纳米二氧化钛，与普通级化妆品二氧化钛相比，如下优势：1,30-50纳米的化妆品级二氧化钛透明性好，所做的防晒霜涂在肌肤上显得自然，细腻；2，化…
标签: 2025-11-24
2025年11月16日，为期三天的上海儿童健康展在上海世博展览馆圆满落幕。作为聚焦儿童健康领域的年度盛会，展会以专业视角整合产业资源，用创新形式传递健康理念，为行业发展与家庭育儿搭建桥梁。今年共吸引88家机构及企业以展示、科普、互动等多元形式参与，迎来8,929…
标签: 2025-11-242025年11月14日至16日，备受行业关注与家庭期待的第二届上海儿童健康展于上海世博展览馆隆重开幕。展会专注于3-16岁儿童，以“大健康·新生态”为主题，致力于构建一个从“单一”到“多元”，从“传统”到“智能”转型的全新儿童健康产业生态体系。2025上海儿童健康…
标签: 2025-11-24
ZESTRON® SD 301用于清除焊锡膏、SMT 胶水和厚膜浆料的网板和丝网清洗液ZESTRON® SD 301 是一款改良配方的清洗液，气味更淡，其快速干燥能力缩短了清洗工艺的时间。ZESTRON® SD 301设计用在喷淋清洗设备中，来清除网板和丝网上的焊锡膏、SMT 胶水和厚膜浆料。另外…
标签: 2025-11-24
ZESTRON® SD 100用于清洗网板和丝网的精密清洗液ZESTRON® SD 100是溶剂型清洗液，它设计用于喷淋清洗设备中，来清除SMT网板上的焊锡膏。ZESTRON® SD 100 还可以用于误印线路板的清洗。相较于其他清洗液的优势：ZESTRON®SD 100的高清洗负载能力和非常好的可过滤性…
标签: 2025-11-24
ZESTRON® FA+用于半水工艺的助焊剂清洗液ZESTRON® FA+ 是用于清除电子组装件，陶瓷基板，功率器件（功率模块，引线框架型分立器件，功率LED器件）和封装器件（倒装芯片，CMOS器件）上各种助焊剂残留物的溶剂型清洗液。ZESTRON® FA+具有极佳的清洗能力和极高的负载…
标签: 2025-11-24
ZESTRON® DW用于镜片表面除蜡、PCB除蜡、功率电子除蜡的溶剂型清洗剂ZESTRON® DW是一款溶剂型清洗剂，专门设计用于去除镜片表面、电子元器件、混合陶瓷、功率模组和引线框架上的蜡残留。相较于其他清洗液的优势：ZESTRON®DW拥有良好的疏水性溶解力，类似于芳香烃…
标签: 2025-11-24
ZESTRON® CO 150用于无水共溶工艺的精密清洗液ZESTRON® CO 150是一款为浸入式超声波清洗工艺而研发的溶剂型清洗液。ZESTRON® CO150可在不被稀释的情况下用作预清洗，或与HFE溶剂混合作为共溶溶剂使用。ZESTRON® CO 150特别适用于去除电子组装件，功率模块和引线…
标签: 2025-11-24
HYDRON® WS 400去除水溶性助焊剂的碱性水基清洗剂HYDRON® WS 400 是一款水基型清洗剂，特别设计用于去除电子组装件上水溶性(WS)助焊剂残留物。该清洗剂与敏感金属兼容。HYDRON® WS 400 在低浓度(3%-5%)应用时，可渗透去离子水无法达到的低底部间隙元器件的细小空…
标签: 2025-11-24
HYDRON® SE 230A用于半导体器件的碱性清洗剂专为浸没式清洗工艺设计的单相水基型清洗剂，能够有效去除多种半导体电子器件芯片焊接后的助焊剂残留物，包括引线框架、分立器件、功率模块、功率LED、倒装芯片和CMOS，且能够保证有效去除铜表面的氧化层。相较于其他清洗…
标签: 2025-11-24
HYDRON® SE 220专为半导体电子设计的 pH中性助焊剂清洗液HYDRON® SE 220是一款水基型单相清洗液,专门设计用于浸没式清洗工艺。HYDRON® SE 220能够有效去除芯片黏着后引线框架、分立器件、功率模块、功率LED等多种半导体电子器件上的助焊剂残留，对于倒装芯片、CMO…
标签: 2025-11-24
HYDRON® SC 300单相水基型钢网清洗剂HYDRON® SC 300 是一款单相水基型清洗产品，用于在室温条件下对SMT钢网进行清洗。该清洗剂能够高效地在单一工艺中去除锡膏及SMT贴片胶残留。HYDRON®SC 300同时适用于清洗和漂洗应用，在烘干后不会留下残渍。相较于其他清洗液的…
标签: 2025-11-24
售后：任经理
