光致产酸剂PAG贺利氏电子化学光刻材料

光致产酸剂（PAG）

纯度超过99.5%且26中金属离子含量都低于10ppb。

i-line和宽带光致产酸剂

贺利氏电子化学材料开发了一系列i-line、宽带、甚至是g-line光刻胶产品。

弱酸光致产酸剂

提供了经久考验的敏感型发色团-弱酸组合来替代现有体质。

热致产酸剂

在应用中，半导体级纯度和高性价比非常重要。

感光起始剂

呈色中心，易溶于常用的光刻胶溶剂。

我司供应销售：Heraeus贺利氏电子化学材料(导电聚合物)，基美KEMET /Arcotronics（薄膜、铝电解、车用穿心电容），莱尼LEONI（汽车、工业、轨道线缆），贺利氏Heraeus（PT100PT1000 A、B、2B级铂电阻），久茂JUMO（贴片、铂电阻），海因茨Heinz(温度传感器元件),成镐SUNGHO（安规电容），TDK/EPCOS（铝电解电容、薄膜电容、传感器），日本林电工 HAYASHI DENKO，太平洋精工PEC（汽车高压保险丝熔断器），古河FURUKAWA（三层绝缘线），日压端子JST，泰科TE/AMP，莫莱克斯MOLEX，YAZAKI矢崎，住友SUMITOMO, 安波福APTIV，德尔福DELPHI，广濑HRS，罗森伯格Rosenberge等接插件。